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A4-SRM系列反射式膜厚測(cè)量?jī)x可用于測(cè)量半導(dǎo)體鍍膜等需要在很小的面積上測(cè)量膜厚的場(chǎng)合。通常面積可小于50um或20um。半導(dǎo)體需要測(cè)量silicon nitride,photoresist, polysilicon,oxide等在硅上的膜厚或silicon nitride和oxide等多層膜的厚度。我公司針對(duì)這一需求,已經(jīng)推出多款滿足國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體,半導(dǎo)體封裝,平板顯示等行業(yè)需求的小光斑顯微膜厚測(cè)量?jī)x,并已在國(guó)內(nèi)多家半導(dǎo)體及相關(guān)廠商投入使用。我公司的小光斑顯微膜厚測(cè)量?jī)x可以配200毫米(8英寸)和300毫米(12英寸)的工作臺(tái)和CCD攝像頭,配有多個(gè)物鏡,可使用放大倍數(shù)較小的物鏡進(jìn)行目標(biāo)查找,然后再使用較大物鏡進(jìn)行測(cè)量。(如圖)
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